高性能光譜儀包括以下幾個主要部分

　　高性能光譜儀主要由一個光學平臺和一個檢測系統(tǒng)組成。包括以下幾個主要部分：

　　

　　1、入射狹縫：在入射光的照射下形成光譜儀成像系統(tǒng)的物點。

　　

　　2、準直元件：使狹縫發(fā)出的光線變?yōu)槠叫泄狻Ｔ摐手痹梢允且华毩⒌耐哥R、反射鏡、或直接集成在色散元件上，如凹面光柵光譜儀中的凹面光柵。

　　

　　3、色散元件：通常采用光柵，使光信號在空間上按波長分散成為多條光束。

　　

　　4、聚焦元件：聚焦色散后的光束，使其在焦平面上形成一系列入射狹縫的像，其中每一像點對應于一特定波長。

　　

　　5、探測器陣列：放置于焦平面，用于測量各波長像點的光強度。該探測器陣列可以是CCD陣列或其它種類的光探測器陣列。
 

　　

　　高性能光譜儀的透射率或它的效率可用輔助單色儀裝置來測定。在可見和近紫外實現(xiàn)這些測量沒有任何困難。測量通過第一個單色儀的光通量，緊接著測量通過兩個單色儀的光通量，以這種方式來確定第二個單色儀的透射率。

　　

　　絕對測量需要知道單色儀的絕對透射率：對于相對測量，以各種波長處的相對單位可以測量透射率。真空紫外線的這些測量有相當大的實驗困難，因此通常使用輔助單色儀。在各種入射角的情況下分別測量衍射光柵的效率。在許多實驗步驟中已成功地避免了校準上的困難。

　　

　　高性能光譜儀應用很廣，在農(nóng)業(yè)、天文、汽車、生物、化學、鍍膜、色度計量、環(huán)境檢測、薄膜工業(yè)、食品、印刷、造紙、拉曼光譜、半導體工業(yè)、成分檢測、顏色混合及匹配、生物醫(yī)學應用、熒光測量、寶石成分檢測、氧濃度傳感器、真空室鍍膜過程監(jiān)控、薄膜厚度測量、LED測量、發(fā)射光譜測量、紫外/可見吸收光譜測量、顏色測量等領(lǐng)域應用廣泛。